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반도체 소자의 제작에 있어 가장 중요한 과정인 패턴 형성 공정을 실습하는 과정으로 Photolithography 및 Etch 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정
교육비
35/40/65만
교육기간
2일(16시간)
반도체 소자의 제작에 있어 중요한 과정인 박막을 형성하기 위한 Wet Cleaning 공정, Oxidation 공정, PECVD 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정
40/45/70만