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3. CVD 공정 실습(초급)

교육 과정
​CVD 공정 실습 [초급]
​1.5일
교육 기간

반도체 소자 제작에 필요한 박막을 형성하기 위한 공정을 실습

실습 내용
기대 성과

  • Wet Cleaning 공정에 대해 설명할 수 있다

  • Wet Cleaning 공정을 수행할 수 있다

  • CVD 공정에 대해 설명할 수 있다

  • LPCVD 공정을 이용한 Nitride 및 Poly-Si의 Deposition을 수행할 수 있다

  • PECVD 공정을 이용한 Oxide의 Deposition을 수행할 수 있다

  • CVD법에 의해 형성된 박막의 두께를 측정하고 통계적으로 설명할 수 있다

Wet Cleaning, CVD (LPCVD & PECVD), 두께 측정 및 분석

실습 공정
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