top of page
HOME
๊ต์ก์ ์๊ฐ
SPTA ๊ต์ก
๊ต์ก๊ณผ์
๊ต ์ก ๋น
๊ต์ก์ด์ํํฉ
๊ต์กํ๊ธฐ
SPTA ๊ณต์ ์ค์ต
๊ต์ก ์ค๋น
๊ต์ก์ผ์
์จ๋ผ์ธ์์ฝ
More
Use tab to navigate through the menu items.
Semiconductor Process Technology Academy Inc.
SPTA ๊ณต์ ์ค์ต
๋์์ ๋ณด๊ธฐ
๋์์ ๋ณด๊ธฐ
02:25
Oxidation
๋์์ ๋ณด๊ธฐ
๋์์ ๋ณด๊ธฐ
02:21
PR strip
๋์์ ๋ณด๊ธฐ
๋์์ ๋ณด๊ธฐ
01:30
Exposure
๋์์ ๋ณด๊ธฐ
๋์์ ๋ณด๊ธฐ
03:20
MOS ์ปคํจ์ํฐ์ C-V ํน์ฑ ์ธก์ ํ๊ธฐ : N-Type MOS Cap.
๋์์ ๋ณด๊ธฐ
๋์์ ๋ณด๊ธฐ
05:05
MOSFET์ ์ ๋ฅ-์ ์ ํน์ฑ ์ธก์ ํ๊ธฐ
๋์์ ๋ณด๊ธฐ
๋์์ ๋ณด๊ธฐ
03:21
๋ฐ๋์ฒด์์์ ์ ๊ธฐ์ ํน์ฑ ์ธก์ [1] : Probe Station ์ฌ์ฉ๋ฒ ๋ฐ ์ธก์ ์์คํ ์ ๊ฒ
๋๋ณด๊ธฐ
bottom of page