2일 (16시간)

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​반도체 소자의 제작에 있어 가장 중요한 과정인 패턴 형성 공정을 실습하는 과정으로 Photolitography 및 Etch 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정

2일 (16시간) / 3일 (24시간)​​​

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반도체 ​​공정 진행을 위한 장비의 요소 기술을 이론적으로 살펴보고 공정 실습 교육을 통해 실무 설비 및 공정 내용을 익히는 과정

2일 (16시간)

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​반도체 소자의 제작에 있어 중요한 박막을 형성하기 위한 과정으로 Wet Cleaning 공정, Oxidation 공정, PECVD 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정​​

2일 (16시간)​​​

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​​포토 공정의 변수 최적화를 실습하는 과정으로 기초 포토공정 실습, 통계기반 최적화 진행, 최적조건에 대한 검증 실습을 통해 실무 내용을 익히는 과정

3일 (24시간)

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​반도체 소자 제작에 있어 중요한 반도체 구조 형성을 위한 과정으로 Photolithography 및 Etch 공정, Wet Cleaning 공정, Oxidation 공정에 대한 이론과 실습을 익히는 과정

공정별 1일 (8시간)

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​반도체 단위 공정인 Photolithography 공정, Etch 공정, CVD 공정에 대한 이론과 실습을 익히는 과정

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