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2일 (16시간)
반도체 소자의 제작에 있어 가장 중요한 과정인 패턴 형성 공정을 실습하는 과정으로 Photolithography 및 Etch 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정
반도체 소자의 제작에 있어 중요한 과정인 박막을 형성하기 위한 Wet Cleaning 공정, Oxidation 공정, PECVD 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정
3일 (24시간)
반도체 소자 제작에 있어 중요한 과정인 구조형성 공정을 실습하는 과정으로 Photolithography 및 Etch 공정, Wet Cleaning 공정, Oxidation 공정에 대한 이론과 실습을 익히는 과정
1일 (8시간)
반도체 소자의 제작에 있어 가장 중요한 과정인 Photolithography 및 Etch, CVD 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정
제작된 반도체 소자의 전기적 특성을 직접 측정하고 분석함으로써 소자의 물성을 이해하고 분석 기법을 실습할 수 있는 과정
4일 (32시간)
반도체 소자 제작을 위한 주요 단위 공정과 집적 공정, 트랜지스터 소자 제작 그리고 Probe Station을 활용한 반도체 소자의 전기적 특성 측정을 직접 실습하는 과정
3일 (24시간)
반도체 소자 제작(2일)
전기적 특성 측정(1일)
반도체 소자의 전기적 특성을 직접 측정하고 패키징공정 후의 전기적 특성을 측정하여 비교하며 분석해보는 과정
4일 (32시간)
반도체 소자를 직접 제작하여 전기적 특성을 측정하고, 패키징공정 후의 소자 특성과 비교해보는 과정
공정을 진행하는 반도체 장비의 요소기술 및 핵심 부품에 대한 이론 및 기초를 실습하는 과정
개인 노트북 준비
반도체 소자 제작을 위한 주요 8대 단위 공정 & CMOS 집적 공정에 대한 이론적인 교육과정
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