통계분석 기반 포토 공정 최적화실습 과정

[1] 교육 과정 특징

1. 포토 공정의 기본 이론 및 향후 방향에 대한 이해

2. 클린룸에서 교육생이 직접 Wafer Handling 하여 실습 진행

3. 포토공정의 주요 변수가 패턴의 크기에 미치는 영향을 파악할 수 있음

4. 통계 분석을 통한 공정 변수 최적화 및 검증 실습 진행 (회사 업무와 유사)

5. 데이터 정리 및 발표 경험을 통한 자소서 및 면접 대비 (취준생 필수템)

6. 수료증 ( 교육시간 70% 이상 참석시)

[2] 세부 실습 내용

• 1일차 : 포토 공정 변수에 대한 실험 및 데이터 측정 (1차 포토 실습)

• 2일차 : 통계적 처리를 통한 최적 조건 도출 및 데이터 검증 (2차 포토 실습)

[3] 교육 일정 : 2025.11.28~11.29 (2일 16시간)

[4] 교육비

• 재학생, 구직자 40만원

• 재직자 80만원

[5] 준비물 : 개인 노트북 필요

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「통계분석 기반 포토 공정 최적화실습」과정의 개설을 위하여 수요 조사를 하고 있으니 많은 참여 부탁드립니다.

과정 개설시 교육에 참여할 의사가 있습니다

• 예
• 아니오
• 모르겠음