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Semiconductor Process Technology Academy Inc.
반도체소자 제작 및 특성 분석(심화)
32시간(4일) 과정
교육목표
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반도체 소자 제작을 위한 집적 공정에 대한 이론 및 실습 교육, 제작된 소자의 전기적 특성 측정/분석을 통해 실무 능력 함양
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반도체 분야의 회사에 취직하고자 하는 구직자 및 이공계 대학생의 반도체 소자 제작공정 및 전기적 특성 분석 관련 실무 지식 함양
교육내용
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반도체 관련 중소기업 재직자, 구직자 및 이공계 대학생을 대상으로 업계가 요구하는 기본이 되는 반도체 집적공정 기술을 교육하고, 소자 제작 및 전기적 특성 분석을 직접 실습하게 함으로써 실무 내용을 익히는 과정
주요 실습내용
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클린룸 사용법 및 웨이퍼 핸들링 실습
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MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor) 제작 공정 실습
- Photolithography 공정
- Dry Etch 공정
- Wet Cleaning 공정
- ILD Oxide Deposition 공정
- RTA 공정
- Diffusion 공정
- Metallization 공정
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제작된 소자의 전기적 특성 측정
- Probe Station을 이용한 전류-전압 특성 측성
- MOSFET 소자의 주요 파라미터 추출
교육비
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재학생 800,000 / 구직자 850,000 / 재직자 1,600,000
추천 학과
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전자, 전기, 재료, 화학, 화공 계열 전공자
교육시간표
* 4일차는 조별 측정 순서에 따라 조별 중식 시간이 다릅니다.
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