24시간(3일) 과정

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교육목표

• 반도체 소자 제작을 위한 집적 공정에 대한 이론 및 실습 교육, 제작된 소자의 전기적 특성 측정/분석을 통해 실무 능력 함양

• 반도체 분야의 회사에 취직하고자 하는 구직자 및 이공계 대학생의 반도체 소자 제작공정 및 전기적 특성 분석 관련 실무 지식 함양

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교육내용

•  반도체 관련 중소기업 재직자, 구직자 및 이공계 대학생을 대상으로 업계가 요구하는 기본이 되는 반도체 집적공정 기술을 교육하고, 소자 제작 및 전기적 특성 분석을 직접 실습하게 함으로써 실무 내용을 익히는 과정

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​주요 실습내용​

• 클린룸 사용법 및 웨이퍼 핸들링 실습

• MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor) 제작 공정 실습

-  Photolithography 공정

-  Dry Etch 공정

-  Wet Cleaning 공정

-  Metallization 공정

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* (속성) 과정은 (심화) 과정 중 ILD Oxide Deposition공정과 Diffusion 공정이 생략된 과정임

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• 제작된 소자의 전기적 특성 측정

-  Probe Station을 이용한 전류-전압 특성 측성

-  MOSFET 소자의 주요 파라미터 추출

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교육비

• 재학생 650,000 / 구직자 700,000 / 재직자 1,300,000

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추천 학과

• 전자, 전기, 재료, 화학, 화공 계열 전공자 

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교육시간표