교육과정 특징

​

• 포토 공정의 이론 및 향후 방향에 대한 이해

• 클린룸에서 Wafer Handling 실습

• 포토공정을 교육생이 직접 진행

• 포토공정의 주요 변수가 패턴에 미치는 영향에 대한 실습

• 계측장비 실습(패턴의 CD측정)

• 70% 교육 완료시 수료증 수여

​

교육기간 : 1일 8시간

​

교육비 

• ​재학생 200,000원 / 구직자 250,000원 / 재직자 400,000

​교육과정 특징 

​

• 에칭 공정의 기본 원리에 대한 이해

• 클린룸에서 Wafer Handling 실습

• 에칭 (Dry & Wet) 공정을 교육생이 직접 진행

• Dry Etching 공정의 주요 변수가 Etch Rate에 미치는 영향에 대한 실습

• Wet Etching 과 Dry Etching의 공정의 차이점에 대한 실험적 이해

• ​계측장비 실습(두께 측정)

• 70% 교육 완료시 수료증 수여

​

​교육기간 : 1일 8시간

​

교육비 

• ​재학생 200,000원 / 구직자 250,000원 / 재직자 400,000​원

​교육과정 특징 

​

• 진공장비에 기본 원리에 대한 이해

• Wafer transfer 모듈에 대한 이해

• 클린룸에서 Wafer Handling 실습

• PECVD 공정을 교육생이 직접 진행

• ​계측장비 실습(두께 측정)

• 70% 교육 완료시 수료증 수여

​

​교육기간 : 1일 8시간

​

교육비 

• ​재학생 200,000원 / 구직자 250,000원 / 재직자 400,000​원