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반도체 공정(온라인)

[ 제 1 장  ] 구조 형성을 위한 공정 (Structuring)

​

  • Photolithography Process​

  • Etch Process

  • Dielectric Film Formation - Oxidation Process

  • Dielectric Film Formation - Deposition Process

  • CMP Process

  • Wet Cleaning Process

​

[ 제 2 장 ] 소자 동작 구현을 위한 공정 (Operating) 

​

  • Doping Process

  • Ion Implantation Process

  • Diffusion Process

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 [ 제 3 장 ] 칩 동작을 위한 공정 (Connecting)  (준비중)

​

  • Metallization Process

  • BEOL Process

[제1장] 구조 형성 공정

​기초

[제1장]  구조형성 공정(기초) 안내 | time 02m:04s
[제2장]  Photolithography Process | time 27m:49s
[제3장]  Etching Process | time 38m:10s
[제4장]  Dielectric Film Formation - 1.Oxidation Process | time 20m:34s
[제5장]  Dielectric Film Formation - 2.Deposition Process | time 22m:46s
[제6장]  CMP Process | time 16m:00s
[제7장]  Wet Cleaning Process | time 18m:40s
[제8장]  구조형성 공정(기초) 정리-응용편 | time 05m:57s

수강료 : 100,000 / 유효기간 : 입금확인 후 10일

[제2장] 소자 동작 구현 공정

​기초

[제1장]  소자동작 구현 공정(기초) 안내 | time 02m:16s
[제2장]  Ion Implantation Process | time 32m:55s
[제3장]  Diffusion Process | time 26m:28s
[제4장]  소자동작 구현 공정(기초) - 응용 | time 05m:41s

수강료 : 60,000 / 유효기간 : 입금확인 후 6일

Semiconductor Process Technology Academy Inc. 

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