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장비 요소 기술 & 패터닝 공정 실습
24시간(3일) 과정
교육과정 소개
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반도체 장비를 구성하는 주요 요소기술 및 부대설비에 대해 살펴보고, 반도체 소자 제작에 있어 가장 중요한 과정인 패턴 형성 공정을 실습하는 과정으로 Photolithography 및 Dry Etch 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정
교육비
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재학생, 구직자 650,000원 / 재직자 1,200,000
교육시간표

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