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​장비 요소 기술 & 패터닝 공정 실습

24시간(3일) 과정

 

교육과정 소개

  • 반도체 장비를 구성하는 주요 요소기술 및 부대설비에 대해 살펴보고, 반도체 소자 제작에 있어 가장 중요한 과정인 패턴 형성 공정을 실습하는 과정으로 Photolithography 및 Dry Etch 공정에 대한 이론 및 실습 교육을 통해 실무 내용을 익히는 과정

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교육비 

  • 재학생, 구직자 650,000원 / 재직자 1,200,000

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​​교육시간표

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​장비 요소 기술 & 공정 (Etching & CVD) 실습

16시간(2일) 과정

 

교육과정 소개

  • 반도체 공정 진행을 위한 장비의 요소기술을 이론적으로 살펴 보고, Etching과 PECVD 공정실습 교육을 통해 실무 설비 및 공정 내용을 익히는 과정

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교육비 

  • 재학생, 구직자 450,000원 / 재직자 800,000

​교육시간표

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