16시간(2일) 과정

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교육내용 

• 반도체 공정에서 가장 중요한 과정인 포토 공정의 변수 최적화를 실습하는 과정으로 기초 포토공정 실습,
  통계기반 최적화 진행, 최적조건에 대한 검증실습을 통해 실무 내용을 익히는 과정

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​주요 실습내용

• 클린룸 사용법 및 웨이퍼 핸들링

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• Photolithography 공정 (2회, 기초 및 검증)

-  Singe 공정

-  Bake 공정(Soft, PEB, Hard Bake)

-  Exposure & Development 공정

-  ADI CD 측정

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• Data Analysis & Optimization 실습

-  Excel을 이용한 기조 데이터 분석

- Minitab을 활용한 통계분석 및 최적화 조건 도출​

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교육비

• 재학생, 구직자 400,000 / 재직자 800,000

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교육시간표