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신 청 안 내
2026년 12월 교육신청 안내
■ 교육신청 11월 10일 (화) 오전 10시~ 온라인 예약 ■ 교육과정 패터닝 공정 실습 12.7~12.8 (21명) 통계 분석 기반의 포토공정 최적화 실습 12.4~12.5 / 12.25~12.26 (각 21명씩) 장비 요소 기술 및 공정(Etching & CVD) 실습 12.10~12.11 (10명) 장비 요소 기술 및 패터닝 공정 실습 12.14~12.16 (21명) 반도체 구조형성 공정 실습 12.17~12.19 (21명) 반도체 소자 제작 및 전기적 특성 분석(심화) 12.21~12.24 / 12.28~12.31 (각 21명씩) ■ 유의사항 12월 교육 부터 교육비가 인상될 예정입니다. 단체 등 예약으로 인해 교육 일정은 변경될 수 있습니다.
3시간 전
교육원 휴무 안내 (10.30~11.6)
■ 휴무 기간 : 10월 30일(금) ~11월 6일(금) 원활한 교육 환경 조성 및 장비·시설 점검을 위해 휴무 기간을 운영하게 되었습니다. 해당 기간 동안 모든 상담 및 예약 업무가 중단되오니 양해 부탁드립니다. 온라인 예약 재개 : 11월 9일(월) 오전 9시 부터 가능 수강 문의 : 홈페이지 - Q&A 수강신청문의 이용 (접수된 문의는 11월 9일(월)부터 답변) ■ 교육 취소 환불 휴무 기간 중 환불 신청은 11월 9일(월)부터 순차적 처리 가능 ■ 12월 교육 신청 안내 11월 10일(화) 오전 10시~ 온라인 예약 공지사항 참고
8시간 전
2026년 12월 교육 과정 및 교육비 변경 안내
■ 교육과정 내용 변경 사항 실제 반도체 공정 경험을 직무 전문성으로 전환할 수 있는 교육 추가 문제 정의, DOE, 공정 수행, 데이터 측정 및 분석, 발표, 팀 활동 경험 자신의 경험을 직무 전문성 포트폴리오로 정리하는 교육 진행 ■ 교육비 변경 (재학생, 구직자 기준) 장비 요소 기술 및 공정 (Etch & CVD) 실습 : 45만원 패터닝 공정 실습, 박막형성 공정 실습 : 50만원 통계분석 기반의 포토 공정 최적화 실습 : 55만원 장비 요소 기술 및 패터닝 공정 실습, 반도체 구조형성 공정 실습 : 70만원 반도체 소자 제작 및 특성 분석(심화) : 90만원 반도체 소자 제작 및 패키징 실습(특화) : 95만원 ■ 기타사항 실제 교육생들의 취업 역량 강화에 도움을 주고 완성도 높은 교육 프로그램 제공을 위하여 1일 단기 교육 (Photo / Etch / CVD 공정 실습) 과정 운영은 중단합니다. ■ 적용 시기 2026년 12월 교육
10월 22일
2026년 11월 교육신청 안내
■ 교육신청 10월 6일 (화) 오전 10시~ 온라인 예약 ■ 교육과정 패터닝 공정 실습 11.13~11.14 (21명) 통계 분석 기반의 포토공정 최적화 실습 11.27~11.28 (21명) 장비 요소 기술 및 공정(Etching & CVD) 실습 11.30~12.1 (21명) 반도체 소자 제작 및 전기적 특성 분석(심화) 11.23~11.26 (21명) ■ 유의사항 12월 교육 부터 교육비가 인상될 예정입니다.
9월 30일
2026년 10월 교육신청 안내
■ 교육신청 9.1 (화) 오전 10시~ 온라인 예약 ■ 교육과정 패터닝 공정 실습 10.16~10.17 (21명) 장비 요소 기술 및 패터닝 공정 실습 10.1~10.3 (15명) 장비 요소 기술 및 공정(Etching & CVD) 실습 10.6~10.7 (21명) 통계 분석 기반의 포토공정 최적화 실습 10.8~10.9 (21명) 구조 형성 공정실습 10.23~10.25 (5명) ■ 유의사항 10월 일정은 단체 교육의 신청 인원 변경 / 취소 등으로 인해 일정 또는 모집인원이 변경될 수 있습니다.
8월 28일

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