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2026년 12월 교육신청 안내

4시간 전
1분 분량

■ 교육신청

11월 10일 (화) 오전 10시~ 온라인 예약


■ 교육과정

  • 패터닝 공정 실습 12.7~12.8 (21명)

  • 통계 분석 기반의 포토공정 최적화 실습 12.4~12.5 / 12.25~12.26 (각 21명씩)

  • 장비 요소 기술 및 공정(Etching & CVD) 실습 12.10~12.11 (10명)

  • 장비 요소 기술 및 패터닝 공정 실습 12.14~12.16 (21명)

  • 반도체 구조형성 공정 실습 12.17~12.19 (21명)

  • 반도체 소자 제작 및 전기적 특성 분석(심화) 12.21~12.24 / 12.28~12.31 (각 21명씩)


■ 유의사항

  • 12월 교육 부터 교육비가 인상될 예정입니다.

  • 단체 등 예약으로 인해 교육 일정은 변경될 수 있습니다.

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교육원 휴무 안내 (10.30~11.6)

■ 휴무 기간 : 10월 30일(금) ~11월 6일(금) 원활한 교육 환경 조성 및 장비·시설 점검을 위해 휴무 기간을 운영하게 되었습니다. 해당 기간 동안 모든 상담 및 예약 업무가 중단되오니 양해 부탁드립니다. 온라인 예약 재개 : 11월 9일(월) 오전 9시 부터 가능 수강 문의 : 홈페이지 - Q&A 수강신청문의 이용 (접수된 문의는 11월 9일(월

 
 
2026년 12월 교육 과정 및 교육비 변경 안내

■ 교육과정 내용 변경 사항 실제 반도체 공정 경험을 직무 전문성으로 전환할 수 있는 교육 추가 문제 정의, DOE, 공정 수행, 데이터 측정 및 분석, 발표, 팀 활동 경험 자신의 경험을 직무 전문성 포트폴리오로 정리하는 교육 진행 ■ 교육비 변경 (재학생, 구직자 기준) 장비 요소 기술 및 공정 (Etch & CVD) 실습 : 45만원 패터닝 공정 실습

 
 
2026년 11월 교육신청 안내

■ 교육신청 10월 6일 (화) 오전 10시~ 온라인 예약 ■ 교육과정 패터닝 공정 실습 11.13~11.14 (21명) 통계 분석 기반의 포토공정 최적화 실습 11.27~11.28 (21명) 장비 요소 기술 및 공정(Etching & CVD) 실습 11.30~12.1 (21명) 반도체 소자 제작 및 전기적 특성 분석(심화) 11.23~11.26 (21명

 
 
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