[1] 교육 과정 특징 반도체 공정 진행을 위한 장비의 요소기술을 이론적으로 살펴 보고, Etching과 PECVD 공정실습 교육을 통해 실무 설비 및 공정 내용을 익히는 과정 [2] 교육 일정 : 2026.9.3 ~ 9.4 (6명 모집) [3] 교육 신청 : 2026.7.23(목) 오전 10시~ 온라인 예약 [4] 세부 내용 1일차 : 장비 요소기술 2일
[1] 교육 과정 특징 HBM에 대한 이론적 이해 반도체 소자의 전기적 특성 측정 원리와 실무 해석 능력 확보 Wire Bonding 패키징 공정을 직접 수행하고 불량을 분석 HBM에서 요구되는 고속, 고집적 환경의 전기적/패키징 이슈 이해 단순 장비 조작이 아닌 공정, 소자, 패키지 연계 사고력 강화 과제 수행 및 토론을 통한 실무능력 향상 [2] 세부
[1] 교육 과정 특징 포토 공정의 기본 이론 및 향후 방향에 대한 이해 클린룸에서 교육생이 직접 Wafer Handling 하여 실습 진행 포토공정의 주요 변수가 패턴의 크기에 미치는 영향을 파악할 수 있음 통계 분석을 통한 공정 변수 최적화 및 검증 실습 진행 (회사 업무와 유사) 데이터 정리 및 발표 경험을 통한 자소서 및 면접 대비 (취준생 필