[1] 교육 과정 특징 포토 공정의 기본 이론 및 향후 방향에 대한 이해 클린룸에서 교육생이 직접 Wafer Handling 하여 실습 진행 포토공정의 주요 변수가 패턴의 크기에 미치는 영향을 파악할 수 있음 통계 분석을 통한 공정 변수 최적화 및 검증 실습 진행 (회사 업무와 유사) 데이터 정리 및 발표 경험을 통한 자소서 및 면접 대비 (취준생 필
[일 시] 2025년도 9월 1일부터 과정 운영 예정 (학기중) [교육 시간] 평일 18:30~21:00 (월~금) [대상] 반도체 분야로 전업/이직을 준비하고 있는 직장인 반도체 관련 지식을 습득하고자 하는 반도체 분야의 재직자 취준생(재학생/구직자) [과정 구성] 반도체산업에 대한 이해 및 반도체공정 (이론) 과정 (1주 5일) 반도체 공정