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공지사항

[산업재산권 등록] 반도체 소자 제조 시스템

2024년 12월 31일
1분 분량

최종 수정일: 2025년 7월 31일

  • 특 허 제 10-2740972 호

  • 출원일 2023년 11월 21일

  • 발명의 명칭


반도체 소자 제조 시스템



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2026년 12월 교육 과정 및 교육비 변경 안내

■ 교육과정 내용 변경 사항 실제 반도체 공정 경험을 직무 전문성으로 전환할 수 있는 교육 추가 문제 정의, DOE, 공정 수행, 데이터 측정 및 분석, 발표, 팀 활동 경험 자신의 경험을 직무 전문성 포트폴리오로 정리하는 교육 진행 ■ 교육비 변경 (재학생, 구직자 기준) 장비 요소 기술 및 공정 (Etch & CVD) 실습 : 45만원 패터닝 공정 실습

 
 
2026년 11월 교육신청 안내

■ 교육신청 10월 6일 (화) 오전 10시~ 온라인 예약 ■ 교육과정 패터닝 공정 실습 11.13~11.14 (21명) 통계 분석 기반의 포토공정 최적화 실습 11.27~11.28 (21명) 장비 요소 기술 및 공정(Etching & CVD) 실습 11.30~12.1 (21명) 반도체 소자 제작 및 전기적 특성 분석(심화) 11.23~11.26 (21명

 
 
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