top of page

공지사항

반도체소자제작(심화 속성) 과정

  • 2023년 11월 9일
  • 1분 분량

최종 수정일: 2025년 7월 31일


■ 교육과정 : 반도체소자 제작 및 전기적 특성 분석(심화 속성) 과정 / 3일 (24시간)


■ 교육과정 특징

  • 반도체소자제작 및 전기적특성측정실습 (3일 완성)

  • 반도체 소자 제작(2일) + 소자의 전기적 특성 측정(1일)

  • 소자 제작 시 House Wafer (교육원에서 준비한 웨이퍼) 활용



■ 교육비

재학생 : 65만 / 구직자 : 70만 / 재직자 125만




최근 게시물

전체 보기
통계분석 기반 포토 공정 최적화실습 과정

[1] 교육 과정 특징 포토 공정의 기본 이론 및 향후 방향에 대한 이해 클린룸에서 교육생이 직접 Wafer Handling 하여 실습 진행 포토공정의 주요 변수가 패턴의 크기에 미치는 영향을 파악할 수 있음 통계 분석을 통한 공정 변수 최적화 및 검증 실습 진행 (회사 업무와 유사) 데이터 정리 및 발표 경험을 통한 자소서 및 면접 대비 (취준생 필

 
 
1월 박막형성공정실습 추가 안내

1월 중 박막형성공정실습 과정이 개설되었습니다. (9명 모집) ■ 교육과정 박막 형성 공정실습 (1.23 ~ 1.24) ■ 교육신청 (평일) 오전 9시~ 오후 5시 온라인 예약 ■ 교육비 재학생, 구직자 45만 / 재직자 80만

 
 
직장인을 위한 반도체 공정 교육 과정 (야간)

[일 시] 2025년도 9월 1일부터 과정 운영 예정 (학기중) [교육 시간] 평일 18:30~21:00 (월~금) [대상] 반도체 분야로 전업/이직을 준비하고 있는 직장인 반도체 관련 지식을 습득하고자 하는 반도체 분야의 재직자 취준생(재학생/구직자) [과정 구성] 반도체산업에 대한 이해 및 반도체공정 (이론) 과정 (1주 5일) 반도체 공정

 
 
bottom of page